一、投影系统中的光学薄膜（论文文献综述）
贾文涛[1]（2019）在《矢量光场与复杂光学系统相互作用机理研究》文中认为近年来随着偏振光学的迅速发展,人们逐渐意识到偏振能够为光学技术的发展和应用提供更为丰富的自由度。由于独特的空间偏振状态分布,矢量光场在空间传播演化及与物质相互作用的过程中产生了许多新的光学效应和现象,矢量光场已成为了一个令人关注的研究领域。本文主要围绕矢量光场与复杂光学系统的相互作用及机理展开研究,旨在为解决偏振光学领域内的一些前沿问题,如精确调控矢量光场、优化设计高性能的光学系统、提高对光场偏振特性的有效利用、校正和补偿偏振敏感光学系统的偏振像差等科学问题,奠定理论基础并提供技术指导。本文的主要研究内容如下:首先提出了一种基于双延迟器级联系统的矢量光场偏振调控方法。构建了利用双延迟器级联系统调控矢量光场的数学模型,详细讨论了多种不同组合模式下的偏振调控效果和变化规律,包括双1/2波片组合、双1/4波片组合、单1/2波片和单1/4波片组合,分析并仿真计算了不同组合模式对矢量光场的偏振态分布的影响,最后通过实验验证了该偏振调控方法的有效性。其次,以深紫外光刻投影物镜为例研究了复杂光学系统自身的偏振特性。建立了光学薄膜偏振特性分析的数学模型,设计了深紫外增透膜系,并利用MATLAB语言实现了膜系偏振特性参数的计算;在此基础上,基于三维偏振光追迹算法构建了三维偏振像差函数,讨论了三维偏振像差函数的光瞳分布与视场、波长、以及光学薄膜的关系,并分析了二向衰减像差和位相延迟像差的分布规律。最后,研究了矢量光场与深紫外光刻投影物镜的相互作用及机理。分析了矢量光场对光学系统成像质量的影响,采用径向矢量光场和切向矢量光场作为照明光源,讨论了矢量光场的偏振态分布对深紫外光刻投影物镜波像差的影响;研究了光学系统对入射的矢量光场偏振态分布的影响和调制作用,分析计算了采用不同的柱对称矢量光场入射系统后,出射光场的偏振态的分布情况。
张金豹,王明慧,耿浩,史成浡,刘海伟,孙亚威[2]（2018）在《偏振分光棱镜带宽扩展设计与制备技术》文中指出光学薄膜偏振分光棱镜是现代光电显示、光电测试、光电信息传输等系统的重要部件之一,但是,常规的光学薄膜偏振分光棱镜存在光坯化学稳定性差、偏振分光带宽窄、应用角度小等工艺难点。通过深入研究布儒斯特角偏振分光原理与干涉截止滤光片膜系偏振分离效应,使两种设计方法进行结合扩展了偏振分光棱镜的偏振分光带宽,在化学稳定性好的德国肖特光学玻璃BK7光坯上,制备了P偏振光0.44～0.64μm,Tave≥95%,Rave≤5%,S偏振光0.44～0.64μm,Tave≤5%,Rave≥95%的偏振分光膜。这种结构的光学薄膜可以在不同材料光学玻璃光坯上设计优化出宽带宽、大角度、高偏振消光比的偏振分光棱镜,为偏振分光棱镜的设计与加工提供了新的理论依据与制备方案。
来邻[3]（2018）在《基于原子层沉积的大曲率光学元件表面光学薄膜的研究》文中研究说明大曲率光学元件在光学系统中的应用日益广泛,但相应的薄膜沉积技术却仍存在缺陷。原子层沉积（Atomic layer deposition,简称ALD）作为一种新型沉积方式,凭借独特的自限制反应,在大曲率元件表面薄膜制备领域中具有超过常规镀膜方式的潜力。ALD达到高均匀性的要点是自限制反应达到饱和。影响ALD自限制反应的因素有温度、反应物浓度、活化能等,实验时对温度和基底进行了相应控制,因此与基底表面接触的前驱体浓度将成为影响ALD自限制反应达到饱和的重要因素。基于此,本文开展了具体的仿真和实验,主要研究内容如下:仿真部分对实验使用的原子层沉积设备TFS-200进行了分析,确定了模拟计算的主要部分,并根据分析结果进行仿真模型的建立。在进行流体仿真前,模型需要进行网格划分,流体仿真将以划分生成的网格作为计算的最小区域,以设定的初始状态为计算初值,从反应腔进气口与出气口开始迭代计算,得到前驱体的浓度分布和交换过程。根据仿真结果得出,反应腔中前驱体在流动过程中并非均匀分布,反应腔的不同区域存在一定差异。对比反应腔内前驱体的浓度分布和流动过程,得出了浓度变化最稳定的区域作为优化沉积区域,剩余区域为非优化区域。同时还仿真了10mm半球表面前驱体的流动状态,分析了大曲率表面对均匀性的影响。实验部分开展了对优化区域科学性的实验验证。初次制备后对薄膜进行折射率测量,用于后续厚度计算。之后,使用相同基底在不同区域进行两种材料的制备,对薄膜进行生长速率和非均匀性的计算,非均匀性的高低作为评价实验区域优劣的标准。实验结果表明:最佳优化区域内制备的Al2O3和TiO2薄膜相比非优化区域在非均匀性方面有明显下降,非均匀性的下降在沉积高度优化上更为明显。非均匀性的下降表明了优化沉积区域的科学性,测量的薄膜折射率和生长速率为后续制备多层膜奠定了基础。根据单层膜实验的测量结果,在平板基板上进行了单点减反射膜和宽带减反射膜的制备。通过膜系的沉积探究ALD多层膜的过渡区生长规律和生长固定厚度薄膜的方法。利用平板表面生长多层膜的规律在半球基底表面进行相同膜系的制备,验证了原子层沉积在半球基底表面进行复杂膜系的可行性,为后续研究提供了良好基础。
张艳姝[4]（2015）在《数字影像反光镜产品线建设项目风险管理研究》文中提出数字影像技术作为一门发展迅猛的新兴技术,在教育、科技、军事、医疗、出版、艺术、商业领域以及社会生活的各个方面,发挥着越来越重要的作用。尤其是在电影制作领域,随着国内电影事业的蓬勃发展以及电影制作技术的突飞猛进,数字影像在其中的关键作用体现的尤为明显,其所带来的经济效益也是显而易见的。反光镜作为数字影像制作设备中重要的零部件,它的需求量也在几年内呈几何倍数的增长。目前,国内的数字影像反光镜技术还不十分成熟,数字影像反光镜产品基本被国外公司所垄断,发展前景十分广阔。所以,加大对数字影像反光镜技术的研发,上马数字影像反光镜产品线,对于填补国内空白,打破国外公司垄断,分享数字影像技术发展所带来的经济效益具有十分重要的意义。同时,我们也应该看到,由于本项目在国内建设尚属首例,没有成功的经验可以借鉴,其技术研发、生产线建设、以及产品推广中的不确定很大,风险很高,所以在本项目中引进项目风险管理是十分必要的。本文在详细分析国内外数字影像反光镜技术、产品现状,以及我公司研发团队、总体实力的基础上,详细的研究了数字影像精密反光镜市场分析与评估,并结合产品的设计制造关键技术的可行性分析,通过深入学习、挖掘项目风向管理理论,分别从项目风险规划,项目风险识别,项目风险估计,项目风险评价,项目风险应对以及项目风险监控等多个方面,对本生产线建设进行风险控制管理,建立风险控制模型和数据库,使该项目能够顺利实施,从而实现产品线的合理化建设,弥补该产品的国内空白,实现公司主营业务上新的经济增长点。本论文运用项目风险管理理论,对本生产线建设实施风险管理,取得了较好效果,实现了产品线的合理化建设。希望能够为国内类似项目建设风险管理起到一定借鉴作用。
王君,金春水,王丽萍,郭本银,喻波[5]（2014）在《极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用》文中研究表明极紫外光刻投影系统中高反膜厚度一般约300nm,远大于13.5nm的工作波长,光能并不能完全穿透膜层入射到基底,从而引入数倍于波长的额外光程差,降低系统成像质量。从能量调制的角度提出了一种基于能量守恒定律的多层膜等效工作界面模型,将光学薄膜中复杂的物理光学过程等效地转换为简单直观的几何光学过程,获取可被常用光学设计软件识别的数据,进而实现对有膜光学系统的分析。利用该模型对不同系统进行了分析优化,获得了一套可实现衍射受限成像的有膜系统方案,证明了基于能量守恒的等效工作界面的有效性,指导后续系统的装调,为多次反射系统的分析提供了一种方法。
袁文佳[6]（2011）在《离子束溅射制备光学薄膜的研究》文中指出离子束溅射以其出色的工艺稳定性、制备的薄膜性能优越等优点,已成为制备高性能光学薄膜的重要手段。本课题在实验室自制的设备上对离子束溅射的工艺进行了系统研究,对在不同工艺条件下制备的Nb205、Ta205和Si02薄膜的特性包括光学特性、力学特性、薄膜微结构和表面形貌进行了深入研究,并系统地分析了离子源参数对材料特性的影响,以获得比较理想的制备条件。与采用离子辅助沉积和电子束蒸发制备的样品作了对比,结果显示离子束溅射制备的薄膜光学特性和微结构更加优越,并通过膜厚均匀性修正,使其成为一种出色的光学薄膜沉积方式。对离子束溅射制备多层光学薄膜展开讨论。对离子束溅射沉积速率的特性进行了研究,验证了其速率稳定和重复性好的优点,为时间监控方式提供了实验基础。研究了利用时间监控和晶振监控的方法对多层光学薄膜进行制备。针对晶振监控方式,研究了在不同材料上的沉积特性差异,并提出了对高低折射率材料分别采用不同晶片进行膜厚监控的方法,并详述其制备方法。对飞秒激光器用于色散补偿的啁啾镜的制备展开讨论。首先提出了用时间监控结合晶振监控方法对啁啾镜进行制备,成功制备了600nm-1000nnm带宽可提供平均值为-50fs2GDD补偿量的啁啾镜。用晶振监控方法制备了啁啾镜对,通过使用实验室自制的白光干涉系统测得结果,取得了较满意的实验效果。
李海峰,刘旭,顾培夫[7]（2009）在《投影显示中的光学薄膜元件》文中提出介绍了液晶显示器（LCD）投影、数字光处理（DLP）投影和硅基液晶（LCOS）投影的显示原理及光学薄膜元件在投影中的应用情况,对隔红外紫外滤光片、二向色镜、减反射膜及偏振分束镜的光学性能作了详细分析。
王永强[8]（2008）在《溶胶—凝胶法制备TiO2/SiO2宽带增透膜及偏振分光膜研究》文中指出本文首先利用Mass膜系设计软件，根据多层膜理论，对由TiO2和SiO2两种材料组成的交替多层膜进行理论模拟设计，得到最佳化和最优化的宽带增透膜模型和偏振分光膜模型。然后以理论模拟结果为指导，利用溶胶-凝胶技术，在酸催化体系中以钛酸丁酯（Ti（OBu）4）为前驱体制得TiO2溶胶，以正硅酸乙酯（TEOS）为前驱体制得SiO2溶胶，采用提拉法在普通载玻片上分别镀制不同膜层结构的宽带增透膜和偏振分光膜。利用双光束紫外-可见分光光度计、原子力显微镜、拉曼光谱仪、椭圆偏振仪、双通道光率计等仪器对样品进行表征，研究了样品的透射光谱及透射比、表面形貌、膜层厚度、消光比等特性。增透膜的模拟计算结果表明，垂直入射时，双面镀TiO2／SiO2膜（hl膜），在整个440-700nm波段，光线的透射比为99％左右，其增透效果要好于单面膜。根据理论模拟结果，实验采用“交替镀膜”法，制备出宽带增透TiO2／SiO2多层膜，其方法有别于以往的TiO2+SiO2”复合膜”法。实验发现，双面hl膜具有明显的宽带增透效果：在400-700nm波段，当光线垂直入射时，增透7％左右；45°角入射时，可增透10％。研究了提拉速度和退火温度对样品透射比的影响，结果表明，提拉速度为9cm／min，膜厚大约为255nm时，整个波段透射效果最好；退火处理对膜片的透射比影响较大，控制退火温度及提拉速度，可以使某些波段透射比增强。薄膜表面的AFM图表明hl膜的表面均匀性良好，80℃处理后薄膜膜层的均方根表面粗糙度（RMS）为1．682，平均粗糙度（RA）为1．208；300℃退火后，其RMS为0．289，RA仅为0．207；550℃退火后，其RMS为0．167，RA仅为0．108。随着退火温度升高，表面粗糙度降低，而表面粗糙度大的薄膜其透射效果较好，这主要是由于随退火温度升高-OH被除去的缘故。偏振分光膜的模拟计算结果表明，TiO2／SiO2四层膜（lhlh膜），在400-700nm比较宽的波带范围内，其透射比和反射比接近50％，能够很好地实现分光；其S光反射比可以达到95％，P光的透射比在90％左右，能够较好地分开S光和P光。在实验室中，利用溶胶-凝胶技术，采用提拉法镀制了此种薄膜，对样品的偏振特性及消光比等做了测量。实验测试结果如下：透射P光在检偏器的转动360°的情况下，其曲线变化遵循马吕斯定律，且相对于最大光强，最小光强基本为0；两光强峰值对称，这说明样品棱镜的起偏振性能良好。样品的消光比为476：1。在400-700nm比较宽的波段范围内，样品的P光的透射比超过80％，且其消光比随入射角的变化不敏感。
张鸣杰[9]（2008）在《基于LED光源的DLP投影系统中实时色域校准》文中研究说明DLP数字光处理技术是显示技术领域的一朵奇葩,相对LCD,LCOS,PDP等其它显示技术,它具有高亮度、高对比度、高清晰度、高可靠性、精确的灰度和彩色再现能力等优点,已成为国际上主流的微显示投影技术;固态LED光源具有寿命长、色域广、成本低、开关速度快、无有害光线及绿色环保的优点,随着单管功率和输出光效率的不断提高,LED光源必将替代超高压汞灯,成为极具发展前景的微显示投影系统新光源。论文主要涉及基于LED光源的DLP投影系统光学引擎的研究。论文的主要研究内容及创新点如下:1.提出一套完整的基于大功率LED光源的DLP投影系统模型,设计了一组针对LED光源的蝇眼透镜照明系统结构,通过蝇眼透镜将光束加以细分,提高光场均匀度,利于光能量的高效会聚。应用了光学扩展量（étendue）理论对系统进行分析,从而确立合适的系统参数条件,最终实现了基于LED光源DLP投影系统的计算机设计、建模、仿真,研制了国内首台具有自主知识产权、低成本、基于LED光源的DLP光学引擎样机,大大降低了背投电视的光源使用成本,同时提高了其色度、稳定性等主要性能。2.提出了LED动态色域校准方法,解决了时序工作方式的LED广色域投影系统的动态色域校准问题对大功率LED的光电性能进行了大量实验测量,获得了有价值的数据。在此基础上,详细讨论了LED广色域投影系统的色域校准算法,针对时序显示方式工作的LED广色域投影系统,创新性地提出利用一组XYZ sensor（色度传感器）实时测量并反馈三基色LED的色品坐标,设计并实现了基于FPGA的实时动态色域校准方案,避免了环境温度差异对投影系统色品坐标的影响。3.对CIE光源测试标准进行了修正,提出了采用标准光源A的LED器件光通量测试方法,为所参与制定的“LED器件光学性能测试方法”行业标准提供了依据。4.在不改变荧光粉配比和内部芯片结构的前提下,提出在白光LED相对光谱功率分布曲线缺少波段处补色以提高其光源显色指数的方法,它扩大了白光LED应用的范围。本文是在福建省科技计划重点项目《以LED为照明光源的DLP背投电视光学引擎》的工作基础上的深入研究。
郭培涛[10]（2007）在《Ta2O5光学薄膜的制备及退火对其光学性能的影响》文中研究说明光学薄膜作为纳米材料的一种,受到广大研究和应用者的关注,已经广泛应用于显示器、太阳能电池、光通讯以及激光器件等诸多领域。Ta2O5薄膜的制备工艺、介电性能、光学性能等也是国内外研究者关注的热点。制备工艺、后处理工艺和生长方式对薄膜的结构和各种性能有至关重要的影响,离子束作用于薄膜生长,打破了热蒸发时的生长模式,变得更为复杂。本文采用有无离子源辅助电子束蒸发两种工艺制备了Ta2O5薄膜,研究了制备工艺对Ta2O5薄膜性能的影响。结果表明无离子源辅助电子束蒸发加工转工艺下制备的薄膜厚度均匀性很好,而离子束的引入一定程度上破坏了这种稳定性;用XRD、XPS技术分析了膜料及Ta2O5薄膜的相结构和成分,结果表明膜料预熔后的主要成分还是Ta2O5,具有很好的稳定性,制备的薄膜为非晶态,O/Ta比为2.69;用UV755B、U-4100型分光光度计测试了薄膜的透射光谱,计算得薄膜的折射率,并以此分析了本底真空、离子束辅助等工艺参数对薄膜光学性能的影响,实验结果表明高本底真空或引入离子束都可以提高Ta2O5薄膜的折射率。用AFM表征了有离子源电子束蒸发制备薄膜的表面形貌、粗糙度、相位信息,分析认为此工艺下Ta2O5薄膜为岛状模式生长,不同厚度薄膜表面粗糙度变化不大。本文还系统研究了退火工艺对Ta2O5薄膜性能的影响,分别选取有无离子源辅助电子束蒸发制备的薄膜试样,研究了退火温度（300℃、400℃、500℃、600℃）、保温时间（2h、3h、4h）、保护气氛（空气、氩气）对薄膜光学性能的影响。实验及分析表明,经过300℃～600℃退火处理,Ta2O5薄膜均为非晶态,同样的退火工艺对有、无离子源辅助电子束蒸发制备的Ta2O5薄膜的折射率、透射率及其极值位置影响不同,无离子源电子束蒸发制备的Ta2O5薄膜的光学性能相对稳定。
二、投影系统中的光学薄膜（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、投影系统中的光学薄膜（论文提纲范文）
（1）矢量光场与复杂光学系统相互作用机理研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 选题背景和研究意义 |
| 1.2 国内外研究历史及发展现状 |
| 1.2.1 矢量光场的研究历史及现状 |
| 1.2.2 偏振像差的研究历史及现状 |
| 1.3 本课题的主要研究内容 |
| 第2章 偏振像差基础理论 |
| 2.1 偏振光分析方法 |
| 2.1.1 偏振椭圆 |
| 2.1.2 Jones矢量和Jones矩阵 |
| 2.1.3 Stokes矢量和Mueller矩阵 |
| 2.1.4 三维偏振光追迹算法 |
| 2.2 偏振像差的数学表征 |
| 2.2.1 偏振像差函数 |
| 2.2.2 偏振像差函数的二次扩展式 |
| 2.3 本章小结 |
| 第3章 基于双延迟器级联系统的矢量光场偏振调控方法 |
| 3.1 双延迟器级联系统偏振调控的数学模型 |
| 3.2 双延迟器级联系统偏振调控效果的理论分析 |
| 3.2.1 双1/4 波片对矢量光场的偏振调制 |
| 3.2.2 双1/2 波片对矢量光场的偏振调制 |
| 3.2.3 单1/4 波片和单1/2 波片级联对矢量光场的偏振调制 |
| 3.3 实验验证 |
| 3.3.1 实验光路设计 |
| 3.3.2 实验结果 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 深紫外光刻投影物镜的三维偏振像差 |
| 4.1 光学薄膜偏振特性分析 |
| 4.1.1 光学薄膜偏振特性分析的数学模型 |
| 4.1.2 MATLAB语言实现膜系偏振特性计算 |
| 4.1.3 深紫外光学薄膜的设计及偏振特性分析 |
| 4.2 光刻投影物镜三维偏振像差分析 |
| 4.2.1 三维偏振像差函数 |
| 4.2.2 光刻投影物镜三维偏振像差分析 |
| 4.2.3 光刻投影物镜的二向衰减和位相延迟分析 |
| 4.3 本章小结 |
| 第5章 矢量光场与深紫外光刻投影物镜的相互作用 |
| 5.1 矢量光场对光刻投影物镜成像的质量影响 |
| 5.2 光刻投影物镜对矢量光场的偏振调制作用 |
| 5.3 本章小结 |
| 总结与展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 |
| 致谢 |
（3）基于原子层沉积的大曲率光学元件表面光学薄膜的研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 大曲率光学元件的应用背景 |
| 1.2.1 大数值孔径显微系统 |
| 1.2.2 碰撞锁模环形燃料激光器 |
| 1.3 光学薄膜常用制备方法 |
| 1.3.1 离子束溅射 |
| 1.3.2 电子束蒸发 |
| 1.3.3 磁控溅射 |
| 1.4 原子层沉积技术(ALD) |
| 1.4.1 ALD沉积机理 |
| 1.4.2 ALD应用背景 |
| 1.5 课题的提出及主要研究内容 |
| 2 ALD腔体气体浓度优化区域分析 |
| 2.1 ALD系统TFS-200 |
| 2.2 ALD反应腔模型建立 |
| 2.2.1 2D反应腔模型建立 |
| 2.2.2 3D反应腔模型建立 |
| 2.3 ALD反应腔气体浓度优化区域分析 |
| 2.3.1 2D反应腔气体分布情况 |
| 2.3.2 3D反应腔气体分布情况 |
| 2.4 直径10mm半球基底表面前驱体浓度变化过程 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 ALD均匀性实验的测量与结果 |
| 3.1 材料折射率 |
| 3.2 薄膜厚度的测量 |
| 3.3 2D反应腔均匀性性实验及结果 |
| 3.4 3D反应腔均匀性实验及结果 |
| 3.4.1 3D反应腔工艺参数 |
| 3.4.2 气流方向均匀性实验 |
| 3.4.3 高度方向上均匀性实验 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 ALD多层膜制备 |
| 4.1 单点减反射膜制备 |
| 4.1.1 平面基板单点减反射膜制备 |
| 4.1.2 半径5mm半球基底单点减反射膜制备 |
| 4.2 550～750nm宽带减反射膜制备 |
| 4.2.1 550～750nm宽带减反射设计 |
| 4.2.2 平面基板宽带减反射膜制备 |
| 4.2.3 直径10mm半球基底表面宽带减反射膜制备 |
| 4.3 本章小结 |
| 5 总结与展望 |
| 5.1 结论 |
| 5.2 本文创新点 |
| 5.3 未来展望 |
| 参考文献 |
| 作者简介 |
（4）数字影像反光镜产品线建设项目风险管理研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 项目建设的背景 |
| 1.2 研究的目的和内容 |
| 1.3 国内外研究现状 |
| 1.3.1 国内外风险管理研究现状 |
| 1.3.2 国内外数字影像反光镜制造水平、技术水平现状 |
| 1.4 论文创新之处 |
| 第2章 项目风险管理理论 |
| 2.1 理论概述 |
| 2.1.1 项目风险管理的含义 |
| 2.1.2 项目风险管理的基本原则 |
| 2.1.3 项目风险管理的内容 |
| 2.2 项目风险识别 |
| 2.2.1 概述 |
| 2.2.2 项目风险识别的流程 |
| 2.2.3 项目风险识别的依据 |
| 2.2.4 项目风险识别的工具和方法 |
| 2.2.5 项目风险识别的结果 |
| 2.3 项目风险评估 |
| 2.3.1 概述 |
| 2.3.2 项目风险评估的流程 |
| 2.3.3 项目风险评估的依据 |
| 2.3.4 项目风险评估的工具和方法 |
| 2.3.5 项目风险评估的结果 |
| 2.4 项目风险应对 |
| 2.4.1 概述 |
| 2.4.2 项目风险应对的流程 |
| 2.4.3 项目风险的评估 |
| 2.4.4 项目风险应对的策略和技巧 |
| 2.4.5 项目风险应对的结果 |
| 2.5 项目风险监控 |
| 2.5.1 概述 |
| 2.5.2 项目风险监控的依据 |
| 2.5.3 项目风险监控的工具和方法 |
| 2.5.4 项目风险监控的结果 |
| 第3章 数字影像反光镜产品线建设项目的风险识别与评估 |
| 3.1 数字影像反光镜产品线建设项目介绍 |
| 3.1.1 项目建设基本情况 |
| 3.1.2 项目建设的意义 |
| 3.2 数字影像反光镜产品线建设项目的风险识别方法 |
| 3.3 数字影像反光镜产品线建设项目风险识别内容 |
| 3.3.1 项目的技术风险 |
| 3.3.2 项目的市场风险 |
| 3.3.3 项目的资金风险 |
| 3.3.4 项目的管理风险 |
| 3.4 数字影像反光镜产品线建设项目风险评估方法 |
| 3.5 数字影像反光镜产品线建设项目风险评估结果 |
| 第4章 数字影像反光镜产品线建设项目风险应对 |
| 4.1 技术风险的应对措施 |
| 4.2 市场风险的应对措施 |
| 4.3 资金风险的应对措施 |
| 4.4 管理风险的应对措施 |
| 第5章 数字影像反光镜产品线建设项目风险监控 |
| 5.1 风险监控的步骤 |
| 5.2 数字影像反光镜产品线建设项目风险监控措施 |
| 第6章 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（5）极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 等效工作界面模型 |
| 2.1 基本原理 |
| 2.2 等效工作界面 |
| 2.3 模型修正 |
| 3 等效工作界面的应用 |
| 3.1 有膜光学设计方案兼容性判定 |
| 3.2 两镜薄膜实验参数 |
| 3.3 薄膜附加厚度计算 |
| 3.4 有膜光学系统成像比较 |
| 4 结论 |
（6）离子束溅射制备光学薄膜的研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1. 光学薄膜应用概述 |
| 1.2. 光学薄膜的常用制备方法 |
| 1.3. 离子束溅射技术的发展 |
| 1.4. 色散补偿薄膜简介 |
| 1.5. 本论文的研究内容和创新点 |
| 参考文献 |
| 第二章 离子束溅射原理及系统介绍 |
| 2.1. 离子束溅射的原理 |
| 2.2. 离子束溅射系统结构介绍 |
| 2.2.1. 射频离子源 |
| 2.2.2. 中和器 |
| 2.3. 小结 |
| 参考文献 |
| 第三章 离子束溅射沉积薄膜材料特性研究 |
| 3.1. 实验条件 |
| 3.2. 材料特性研究 |
| 3.2.1. 光学特性 |
| 3.2.2. 应力分析 |
| 3.2.3. 薄膜微结构 |
| 3.3. 膜厚均匀性修正 |
| 3.4. 小结 |
| 参考文献 |
| 第四章 多层光学薄膜制备的研究 |
| 4.1. 离子束溅射沉积速率特性研究 |
| 4.2. 时间监控方式制备薄膜 |
| 4.3. 石英晶体监控方式制备薄膜 |
| 4.4. 色散补偿薄膜的制备 |
| 4.5. 小结 |
| 参考文献 |
| 第五章 总结与展望 |
| 作者简介 |
（7）投影显示中的光学薄膜元件（论文提纲范文）
| 1 引言 |
| 2 投影光学系统 |
| 3 光学薄膜元件特性分析 |
| 3.1 隔红外紫外滤光片 |
| 3.2 二向色镜 |
| 3.3 减反射膜 |
| 3.4 偏振分束棱镜 |
| 4 结论 |
（8）溶胶—凝胶法制备TiO2/SiO2宽带增透膜及偏振分光膜研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 溶胶—凝胶法 |
| 1.2.1 溶胶—凝胶法简介 |
| 1.2.2 溶胶—凝胶法的特点 |
| 1.2.3 溶胶—凝胶法的分类和过程 |
| 1.2.4 影响溶胶—凝胶过程的因素 |
| 1.2.5 常用的几种镀膜方法 |
| 1.2.6 影响薄膜厚度的一些因素 |
| 1.3 屏幕显示中的光学薄膜 |
| 1.3.1 概述 |
| 1.3.2 偏振分光膜 |
| 1.3.3 增透膜 |
| 1.4 本论文的主要工作 |
| 1.5 参考文献 |
| 第二章 实验部分 |
| 2.1 实验设计 |
| 2.2 实验原料及仪器 |
| 2.2.1 原料选择 |
| 2.2.2 实验仪器 |
| 2.3 溶胶的配制 |
| 2.4 薄膜性质的测定及仪器 |
| 第三章 TiO_2/SiO_2宽带增透膜的设计与制备 |
| 3.1 实验与表征 |
| 3.1.1 基片准备 |
| 3.1.2 溶胶制备 |
| 3.1.3 薄膜制备 |
| 3.1.4 薄膜表征 |
| 3.2 实验结果与分析 |
| 3.2.1 模拟计算 |
| 3.2.2 热处理对薄膜的影响 |
| 3.2.3 催化条件对薄膜性能的影响 |
| 3.2.4 薄膜的表面形貌表征 |
| 3.2.5 双面镀膜直射、斜射时透射比增量对比 |
| 3.2.6 不同类型膜片的透射比增量 |
| 3.2.7 提拉速度对透射效果的影响 |
| 3.2.8 退火温度对膜层透射比的影响 |
| 3.2.9 样品的拉曼光谱 |
| 3.2.10 匀胶机镀膜退火温度对透射比的影响 |
| 3.3 本章小结 |
| 3.4 参考文献 |
| 第四章 偏振分光膜的设计、制备与表征 |
| 4.1 实验设计 |
| 4.2 模拟计算 |
| 4.2.1 理论基础 |
| 4.2.2 实验模拟 |
| 4.3 样品结构设计 |
| 4.4 样品检验 |
| 4.4.1 偏振特性的测试 |
| 4.4.2 消光比的测试 |
| 4.4.3 偏振分光镜P光测试 |
| 4.4.4 偏振分光镜 P光消光比随入射角的变化关系 |
| 4.5 本章小结 |
| 4.6 参考文献 |
| 第五章 结论 |
| 附录 |
| 致谢 |
（9）基于LED光源的DLP投影系统中实时色域校准（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 目录 |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 微显投影技术简介 |
| 1.2 微显投影技术的分类 |
| 1.3 LED光源技术与DLP投影显示的结合 |
| 1.4 国内外同类研究开发概况 |
| 1.5 课题内容 |
| 第二章 LED光源DLP投影系统的光学系统 |
| 2.1 首台光机的总体结构 |
| 2.2 照明系统的设计 |
| 2.3 系统仿真结果与实验结果 |
| 2.4 第二台光机的设计 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 LED广色域投影显示系统色域校准方法研究 |
| 3.1 LED广色域投影显示系统的色域问题 |
| 3.2 算法设计 |
| 3.3 算法的系统实现 |
| 3.4 色域校准的FPGA算法实现 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 LED器件光学性能测试方法研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 LED器件光学性能测试方法 |
| 4.3 LED器件检测试验 |
| 4.4 问题与讨论 |
| 第五章 利用补色提高白光LED显色指数 |
| 5.1 白光LED显示指数的问题 |
| 5.2 基本原理和方法 |
| 5.3 计算结果与分析 |
| 5.4 实验结果 |
| 5.5 本章小结 |
| 第六章 回顾与总结 |
| 附录A |
| 附录B |
| 攻读硕士期间的主要科研工作 |
| 参考文献 |
| 后记 |
（10）Ta2O5光学薄膜的制备及退火对其光学性能的影响（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 目录 |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 薄膜光学原理 |
| 1.1.1 薄膜的光干涉效应 |
| 1.1.2 薄膜光干涉的应用 |
| 1.2 光学薄膜的应用 |
| 1.2.1 光学薄膜在显示器技术中的应用 |
| 1.2.2 光学薄膜在太阳能电池中的应用 |
| 1.2.3 光学薄膜在光通讯中的应用 |
| 1.2.4 光学薄膜在激光器件中的应用 |
| 1.3 Ta_2O_5薄膜及退火研究 |
| 1.4 本课题的立题及主要工作 |
| 第2章 试验及薄膜表征 |
| 2.1 膜料的性质 |
| 2.2 真空镀膜机 |
| 2.3 基片的清洗及制备参数 |
| 2.4 基片位置 |
| 2.5 薄膜的表征 |
| 2.5.1 晶格结构(XRD) |
| 2.5.2 薄膜成分(XPS) |
| 2.5.3 表面信息(AFM) |
| 2.5.4 透射率 |
| 2.5.5 折射率 |
| 第3章 制备工艺对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 3.1 Ta_2O_5薄膜成分分析 |
| 3.1.1 相结构分析 |
| 3.1.2 XPS氧钽原子比分析 |
| 3.2 本底真空对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 3.2.1 本底真空对薄膜透射性能的影响 |
| 3.2.2 本底真空对薄膜折射率的影响 |
| 3.3 离子源辅助对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 3.3.1 离子源辅助对薄膜透射率的影响 |
| 3.3.2 离子源辅助对薄膜折射率的影响 |
| 第4章 退火对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 4.1 退火工艺 |
| 4.2 退火温度对Ta_2O_5薄膜结构的影响 |
| 4.3 退火温度对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 4.3.1 退火温度对无离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 4.3.2 退火温度对有离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 4.4 保温时间对Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 4.4.1 保温时间对无离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 4.4.2 保温时间对有离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 4.5 保护气氛对无离子源Ta_2O_5薄膜光学性能的影响 |
| 4.5.1 氩气保护对薄膜光学性能的影响 |
| 4.5.2 空气、氩气退火对Ta_2O_5薄膜光学性能影响的比较 |
| 第5章 Ta_2O_5薄膜生长及表面形貌 |
| 5.1 Ta_2O_5薄膜的生长 |
| 5.2 粗糙度结果及分析 |
| 5.3 AFM相位图分析 |
| 第6章 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 附录:攻读硕士期间发表的论文 |
四、投影系统中的光学薄膜（论文参考文献）
- [1]矢量光场与复杂光学系统相互作用机理研究[D]. 贾文涛. 长春理工大学, 2019(01)
- [2]偏振分光棱镜带宽扩展设计与制备技术[J]. 张金豹,王明慧,耿浩,史成浡,刘海伟,孙亚威. 光电技术应用, 2018(05)
- [3]基于原子层沉积的大曲率光学元件表面光学薄膜的研究[D]. 来邻. 中国计量大学, 2018(01)
- [4]数字影像反光镜产品线建设项目风险管理研究[D]. 张艳姝. 沈阳工业大学, 2015(08)
- [5]极紫外光刻投影物镜中多层膜分析模型的建立及应用[J]. 王君,金春水,王丽萍,郭本银,喻波. 光学学报, 2014(08)
- [6]离子束溅射制备光学薄膜的研究[D]. 袁文佳. 浙江大学, 2011(07)
- [7]投影显示中的光学薄膜元件[J]. 李海峰,刘旭,顾培夫. 激光与光电子学进展, 2009(07)
- [8]溶胶—凝胶法制备TiO2/SiO2宽带增透膜及偏振分光膜研究[D]. 王永强. 西北大学, 2008(08)
- [9]基于LED光源的DLP投影系统中实时色域校准[D]. 张鸣杰. 华东师范大学, 2008(11)
- [10]Ta2O5光学薄膜的制备及退火对其光学性能的影响[D]. 郭培涛. 武汉理工大学, 2007(08)