一、电子束诱导非晶GaAs晶化的形核与长大（论文文献综述）
彭文海[1]（2021）在《强流脉冲电子束辐照WC-10%Co硬质合金改性组织性能及热稳定性研究》文中研究表明表面磨损是硬质合金刀具在高强度服役环境中失效的主要因素,也是研发高性能硬质合金工具所面临的重要问题。近年来,强流脉冲电子束（High current pulsed electron beam,简称HCPEB）在材料表面改性领域发展迅速,短脉冲、高能量密度的电子束辐照下,在材料表面产生热力耦合作用,可以实现材料层微观结构的原位转变。本文以常见的WC-Co类硬质合金为研究载体,利用强流脉冲电子束辐照技术原位调控硬质合金表面微观组织结构,旨在提高硬质合金刀具材料耐磨损性能。本文在HOPE-Ⅰ型强流脉冲电子束装置上选用不同的辐照参数来处理WC-10%Co硬质合金表面,采用显微硬度测试、往复式摩擦磨损实验评价了改性前后硬质合金的性能,利用X射线衍射、三维激光共聚焦显微镜、扫描电子显微镜、透射电子显微镜等材料表征测试手段考察强流脉冲电子束辐照处理下硬质合金表面形貌及微观组织结构的影响,总结了微观组织的演变规律并建立微观组织结构与性能之间的关系。通过对比三种不同晶粒度硬质合金试样（YG10、YG10X、YG10S）改性后组织与性能的差异,考察了原始WC晶粒尺寸对改性过程及效果的影响。在改性理论的分析中,结合温度场模拟、高温扩散计算、形核热力学理论计算等手段,揭示了 HCPEB诱导纳米石墨析出行为的特征以及非平衡凝固过程中稳态相与亚稳相的竞争机制。HCPEB辐照处理诱发硬质合金表面的快速熔凝,处理后表面形成熔坑、微裂纹以及“峰-谷”状起伏等典型形貌。进一步表征结果显示,硬质合金试样表层形成了～1 μm厚结构致密的改性层,微米尺寸的WC晶粒转变为大量纳米尺寸的细小晶粒,改性组织以亚稳立方相WC1-x为主,其间弥散分布着黑色的球状纳米石墨颗粒。随着电子束辐照脉冲次数增加,改性层厚度逐渐增大,平均晶粒尺寸进一步减小,改性层中的石墨颗粒发生了再分布,并逐渐向改性层底部集中:三种硬质合金试样表面形貌、组织、显微结构演变规律总体一致,但原始WC晶粒粗细影响相变进度、石墨形成量、晶粒细化程度。显微硬度测试结果表明,HCPEB辐照使硬质合金试样表面发生了硬化,辐照35次后,YG10、YG10X、YG10S试样的显微硬度分别从原始的1735 HV、2167 HV、2240 HV增大至3128 HV、2903 HV、2883 HV,其中YG10试样硬度的增幅最大～80%,显微硬度的提高主要与改性表层内晶粒的细化有关。摩擦学性能也得到了大幅提升,以YG10为例,辐照6次后改性效果最佳,摩擦系数和磨损率分别从初始状态的～0.70和～3.83×10-4 mm3/min减小至～0.23和～1.63×10-4 mm3/min。磨损形貌对比分析结果表明,改性层中的纳米石墨颗粒起到了润滑减摩作用。HCPEB辐照下,硬质合金表面温度场变化极快,数值模拟结果显示,最大升温和降温速率分别可达～1010 K/s和～108 K/s量级,表面温度最高可达～3200 K;在这样的温度循环中,W、C、Co原子扩散能力也有明显变化,随着温度的降低,原子扩散系数大幅减小。根据改性层内的元素分布情况,石墨的析出区域分为贫Co区和富Co区。贫Co区石墨的形成通过WC熔化过程中的分解反应WC?liq.+gra（～3047K）来实现,该区域内石墨颗粒尺寸相对较小;在富Co区内,高温下C原子快速扩散进入该区并迅速析出形成石墨颗粒,由于Co熔点低,该区处于液相时间较长,因而石墨颗粒进一步析出长大。HCPEB辐照后,硬质合金表层内液相的凝固属于极快的非平衡凝固,此过程中会发生稳态相WC和亚稳相WC1-x的竞争。形核热力学理论计算结果显示,高度过冷情况下,由于原子扩散能力对固液界面前沿成分再分布的限制,在适合的成分区间内（C含量低于39 at.%）,亚稳相WC1-x的形成能力大于稳定相WC,因而通过亚稳共晶反应liq.?WC1-x+gra.快速析出,形成精细的纳米组织。考虑到硬质合金材料在使用过程中会涉及高温环境及改性表层组织的亚稳状态,采用了退火的方式探究亚稳结构热稳定性以及表面性能与组织的关系。研究表明,退火温度不高于500℃时,改性层内没有明显的相变;退火温度在600-700℃时,改性层内发生了固态相变WC1-x→HEX*+HCP*→WC+W2C,形成纤维状纳米组织;当退火温度在900℃以上时,改性表层内形成了大量三元相Co6W6C和Co2W4C,以及少量Co3C和无定形碳。显微硬度测试结果显示,采用合适的退火工艺可以进一步提高表面硬度。
杨泽[2]（2021）在《CsPbBr3钙钛矿量子点在玻璃中的原位生长及光学性能研究》文中研究表明全无机钙钛矿CsPbBr3量子点由于其高光致发光量子产率（PLQY）、窄带发射、高的缺陷容忍度和易合成等优势在发光二极管、太阳能电池、激光和光电探测器等领域具有潜在的应用。然而,全无机钙钛矿的不稳定性和大规模合成仍然是限制其实际应用的主要障碍。其中,通过嵌入致密坚硬的无机玻璃,不稳定的CsPbBr3量子点可以完全与环境隔离。同时,玻璃基体可以防止量子点颗粒的聚集或溶解,并且嵌入无机玻璃的量子点大小和分布相对容易控制。但目前玻璃中制备的CsPbBr3量子点的量子效率还较低,关于玻璃组分对量子点的生长调控以及量子点在玻璃基体中生长动力学研究还较少。故本文首先让CsPbBr3量子点原位生长在低熔点的硼硅酸盐玻璃中,利用透明的惰性玻璃对其进行保护,通过原位TEM研究了量子点在玻璃基体上生长和降解过程,并通过稀土掺杂策略和玻璃拓扑结构设计实现了其发光效率、透明度提升以及光谱可控调节。此外,讨论了其在短波屏蔽和背光显示方面的潜在应用。1.采用电子束在玻璃基体上直接原位诱导出CsPbBr3量子点,确保在真空室中可以直接观察CsPbBr3量子点的生长和降解过程,避免了在电子束辐照下外部因素的影响。此外,还观察到电子束诱导的降解过程分为两个阶段:（1）逐层分解;（2）到达临界半径（2.3 nm）后的瞬时消失。证明了缺陷作为一个关键点,可以触发CsPbBr3量子点的结构崩溃。2.通过玻璃拓扑结构调节可以实现简单有效的自晶化策略在硼硅酸盐玻璃中沉淀CsPbBr3量子点。我们证明了Pb2+作为网络外体具有较大的离子势能,这导致了体系具有较大的自由能,使得玻璃网格结构中发生自发相分离,促进了玻璃中CsPbBr3量子点的成核和结晶。令人印象深刻的是,CsPbBr3 QDs玻璃展示了卓越的热稳定性,光稳定性和耐水性。通过将绿色和红色CsPbX3@glass粉末与商用蓝色GaN芯片耦合,构建了可用于背光显示白光LEDs。3.通过不同浓度Eu3+掺杂可以显着提高CsPbBr3量子点玻璃的量子产率和可见光透过率。通过一系列的表征手段证明了Eu3+在量子点的生长过程中扮演形核剂的作用。此外,结合带隙可调和优异的透明度我们测试了掺杂Eu3+的CsPbBr3微晶玻璃具有优异的短波屏蔽能力,即使在480 h的加速老化试验中也表现出良好的屏蔽性能。
程亮[3]（2019）在《原位透射电镜电子束辐照非热诱导低维纳米结构不稳定性及其交互作用研究》文中研究指明随着纳米技术的不断发展,多种可用于低维纳米结构制备的物理、化学或生物方法被相继开发。然而,由于低维纳米结构内禀的非平衡特性,这些方法大都无法实现对低维纳米结构生长的精确控制。为了突破此局限,实现低维纳米结构功能化,非平衡能量束纳米加工技术应运而生。透射电子显微镜中的电子束是目前唯一既可用于低维纳米结构的形貌和结构表征,又可实现对低维纳米结构进行原位辐照加工的能量束,在纳米加工中扮演着不可被替代的独特角色。本论文中,我们依托透射电子显微镜对高能电子束诱导低维纳米结构之间非热融合和钝化等现象做了系统深入地研究,探究了非热激活下由低维纳米结构不稳定性引起的交互作用机制。主要研究内容如下:1.研究了电子束辐照下三种情形的非晶SiOx纳米线间的非热交互作用和融合过程。首先,研究了两根交叉接触的非晶SiOx纳米线间的的非热交互作用和融合过程;其次,研究了三根彼此交叉接触的非晶SiOx纳米线间的的非热交互作用和融合过程;最后,研究了两根平行接触的非晶SiOx纳米线间的的非热交互作用和融合过程。揭示了以表面曲率不均性及电子束非热激活驱动的近表面原子集体“扩散”或塑性流变为主的融合机制。2.研究了两个晶态Au纳米粒子在电子束辐照下的非热交互作用和聚结过程。揭示了 Au纳米粒子相互接触后形成的体系整体表面曲率不均匀性驱动的聚结过程中的表面原子扩散、塑性流变和湿润效应以及晶体取向旋转趋一调整过程与粒子间界面结构变化及缺陷运动（尤其是室温下界面失配位错滑移和攀移等）之间的对应关系。3.研究了均匀电子束和聚焦电子束辐照下的非晶SiOx纳米线与单侧表面修饰有晶态Au纳米粒子的非晶SiOx纳米线的整体结构转变过程。证实晶态Au纳米粒子对非晶SiOx纳米线的结构不稳定性具有单侧表面钝化作用,揭示了晶态金属纳米粒子的纳米曲率效应和电子束非热激活效应比非晶纳米线的纳米曲率效应和电子束非热激活效应要弱。上述三种不同情况下的低维纳米结构间的交互作用均证实了低维纳米结构曲率效应和能量束非热激活效应的在预言和解释能量束诱导低维纳米结构不稳定性现象时的普适性,从而揭示了其非平衡、非定型、非线性的物理本质。同时研究也揭示了晶态（尤其是晶态金属）低维纳米结构曲率效应和能量束非热激活效应与非晶态低维纳米结构曲率效应和能量束非热激活效应之间的巨大差异。
余开浩[4]（2019）在《热场与电子束辐照作用下氧化硅及碳化硅表面结构演变的原位研究》文中研究表明信息技术的高速发展迫使半导体器件不断缩小尺寸以提高信息处理和传输能力。当器件尺寸缩小到纳米量级时,表面效应逐渐主导其性能。在原子尺度下探明材料表面结构的演变规律,探索表面结构的按需构筑,构建材料表面结构与性能之间的对应关系,对研发高性能半导体器件具有重大意义。本论文基于原位透射电子显微学方法,以在半导体器件中有重要应用的硅基材料（氧化硅与碳化硅）为对象,研究了在电子束辐照与热场作用下材料表面结构演变规律及机理。主要的研究内容和结果如下:1.无定形氧化硅表面生长晶体硅的原位研究。（1）原子尺度下原位观察了无定形二氧化硅在电子束辐照下经非晶亚氧化硅颗粒生成晶体硅颗粒的动态过程。（2）定量分析发现高温下电子束辐照能量越低生成晶体硅的临界剂量越低,可以从108C m-2（室温,300 keV）下降到105 C m-2（600°C,80 keV）,为提高电子束直写速率提供了参考。（3）揭示了电子束辐照下晶体硅的生成机理:氧化硅中总的原子弹性散射截面大于晶体硅中的截面,晶体硅有效自由能降低使相稳定性发生反转,致使氧化硅中的硅原子自组织形成晶体硅。2.原子尺度下生长过程中碳化硅表面结构演变的原位研究。（1）高温下利用电子束辐照在透射电镜中实现了原位气–固沉积碳化硅。（2）揭示了碳化硅颗粒生长过程中表面能驱动的结构演变规律:β-SiC晶体沿<111>晶向逐层生长,表面趋向于形成低能{111}面;多个层错的生长促使β-SiC转变成α-SiC,{111}小晶面的形成促使原子台阶沿α-SiC晶体<1-100>晶向发生聚并;高能的α-SiC{1-100}表面向由倾斜{111}小晶面构成的低能山–谷（Hill-and-valley）结构演变,导致沿[0001]晶向的投影轮廓由六边形向三角形转变。（3）典型α-SiC（6H-SiC、4H-SiC）表面由于{111}小晶面形成而导致沿[1-100]晶向产生半个和一个晶胞高的笔直台阶;沿[11-20]晶向产生半个晶胞高的锯齿状台阶。3.原子尺度下刻蚀过程中碳化硅表面外延石墨烯的原位研究。（1）高温下利用电子束辐照实现了碳化硅洁净表面的原位制备。（2）结合原位透射电子显微学方法与第一性原理分子动力学计算,在原子尺度揭示了石墨烯在碳化硅（1-100）表面外延生长的机理:三层碳化硅由外及里逐层分解形成单层石墨烯;第一层碳化硅分解后在表面生成碳团簇（短链、六元环）,这些团簇是石墨烯生长的晶核;第二层分解产生的碳原子将团簇连接形成一个带有多个大孔洞的碳网络;第三层分解释放的碳原子通过进一步相互作用使碳网络中的孔洞消失,最终形成一层完整的石墨烯。
王疆靖,蒋婷婷,田琳,张丹利,张伟[5]（2019）在《电子束辐照对锗锑碲非晶薄膜影响的研究》文中研究说明相变存储器是目前最具潜力的新式存储设备之一,其存储性能主要取决于相变材料的结构-性能关系,因此结构表征对于相变存储非常重要。透射电子显微镜（TEM）是表征材料形貌、结构的重要手段,但是高能电子束会对材料的结构造成暂时或永久性的影响,这种影响也为表征非晶相变材料带来了极大的挑战,包括已经商业化的Ge SbTe合金。利用原位TEM系统地研究了电子束辐照对Ge Sb2Te4非晶薄膜样品的影响,发现非晶薄膜在较大电子束束流强度下会发生结晶化,而降低束流强度将能够有效保持非晶的稳定性。量化了电子束束流诱发Ge Sb2Te4非晶薄膜晶化的阈值,给出了电子束流强度和辐照诱导相变时间的关系,为利用TEM研究Ge SbTe非晶材料的结构与性能提供了有效的安全界限。
胡奇[6]（2018）在《石墨烯基原位高分辨透射电镜相关器件的开发和应用》文中研究表明原位透射电子显微镜可以实现纳米尺度下很多材料的观察。然而,液体样品与透射电镜中的真空环境不相容,而电子束的辐照损伤对很多固体样品也是不利的。石墨烯只有一个原子层厚,同时具有极高的机械强度、导电性和对小分子的不渗透性,因此可以直接采用石墨烯封装液体或固体材料进行真空条件下的实验。这里以水和硫为例,展示了通过在两层石墨烯之间封装这些材料以进行电镜下的显微分析结果。文中通过石墨烯液体池（GLC）,即将水封在两层石墨烯之间,以实现原位透射电镜下液体动态行为的观察。通过对电子束的精确调控可以控制水的辐解和凝结行为:若先在高电子剂量率下辐照液体,我们发现回到低剂量率后一系列纳米气泡在水中有序地析出并发生长大。界面反应是纳米气泡生长的限制因素,新生的气泡的生长会抑制既有气泡的长大行为。而以相对适中的恒定电子剂量率持续作用,气氛中又出现纳米水滴的凝结,并重复地长大/消失。对单个纳米液滴的轨迹追踪和关键步骤的细节捕捉可以进一步探究液滴的成核和生长过程。我们同样还研究了用石墨烯封装硫纳米粒子以降低被研究的硫颗粒在电镜下的辐照损伤。这种结构称为石墨烯-硫三明治结构（GES）。石墨烯作为保护膜不仅可进行硫的表征,并且这种三明治超结构可以用作加热的纳米级反应室。使用GLC和GES进行原位透射电镜成像,我们可以直接观察涉及气体、液体以及电子束敏感的固体等各类样品的动态过程。实验中观察到的新现象以及对细节的研究,增加了我们对纳米尺度下材料动力学行为的认识。实验结果对于研究纳米限域环境下气/液界面反应等重要过程具有参考价值,同时有助于深入理解电子束辐照效应对实验的影响。
苏江滨[7]（2017）在《电子束辐照非热诱导纳米线纳米不稳定性及相关物理问题研究》文中研究指明当今纳米科学技术的研究背景要求我们不仅要从纳米空间尺度（极小空间限制）,而且还要从纳、皮、飞秒时间尺度（超快时间限制）去揭示材料的结构和性能。在现有文献中,已经有了关于电子束辐照下晶态Si纳米线、ZnO纳米线、金属纳米线的结构转变和彼此间焊接等交互作用,以及电子束辐照辅助下,通过外部作用力实现SiO2、Li2O、Si纳米线的塑性伸长或弯曲变形等零散、不系统的文献报道。尽管如此,它们并没有从非平衡、极度局域和超快角度对高能电子束辐照下纳米线的结构不稳定性转变和相关物理问题进行系统性研究。因此,对纳米线结构不稳定性转变起关键作用的纳尺寸效应（或表面纳米曲率效应）以及电子束超快过程效应（或电子束非热激活效应）的纳米科学本质问题还没有被揭示。鉴于此,本论文采用场发射TEM中高能电子束原位辐照,从非平衡、极度局域和超快角度系统深入地研究了室温下非晶SiOx纳米线、Au纳米颗粒修饰的SiOx（Au@SiOx）纳米线以及单晶Si纳米线的结构不稳定性转变及相关物理问题。研究结果可以归纳为以下三部分:第一部分,研究了非晶SiOx纳米线的结构不稳定性。首先,研究了三种不同典型形貌SiOx纳米线的稳定性差异,提出了原子非热“融蒸”和“扩散”两种主要输运方式,并且发现原子的“融蒸”具有选择优先性,“扩散”具有方向性;其次,研究了不同辐照电流密度下SiOx纳米线的稳定性差异,发现低电流密度下原子“扩散”是主要的输运方式,高电流密度下原子“融蒸”是主要的输运方式;再次,研究了 SiOx纳米线的局域弯曲变形,以及均匀塑性伸长和加速径向收缩,分别为SiOx纳米线的表面纳米曲率效应和电子束的非热激活软模效应提供了直接实验证据;最后,研究了两根SiOx纳米线间的焊接交互作用,揭示了 SiOx纳米线焊接的过程细节以及纳米线间原子的“扩散”机制。第二部分,研究了晶态Au纳米颗粒对非晶SiOx纳米线的钝化作用。研究发现了,当SiOx纳米线表面修饰了 Au纳米颗粒之后,SiOx纳米线的均匀伸长、加速径向收缩、颈缩和切割等结构转变都变得相对缓慢,甚至“s”型弯曲变形等还受到了完全抑制,表现出显着的钝化作用。同时,SiOx纳米线原子的主要输运方式如“扩散”、“融蒸”和塑性流变等及其对纳米线结构转变的贡献也会发生变化。通过分析Au纳米颗粒和SiOx纳米线在表面纳米曲率效应和电子束非热激活效应的差异,对Au纳米颗粒的钝化作用进行了合理解释。第三部分,研究了单晶Si纳米线的结构不稳定性。研究发现了,在聚焦电子束辐照下,辐照区域内纳米线出现了一系列新奇的纳米现象,比如Si纳米线表面的优先完全非晶化和a-C/a-Si/c-Si（非晶碳/非晶硅/多晶硅）局域同轴电缆结构的形成。同时,在纳米线中心的非晶化显得不均匀和更加困难,它伴随着晶粒的旋转和晶面间距的压缩。而且,研究发现还揭示了 Si纳米线和Si薄膜在聚焦电子束辐照下非晶化行为的区别。上述高能电子束辐照下SiOx、Au@SiOx、Si纳米线的结构不稳定性转变及相关物理问题研究具有十分重要的现实指导意义,它为新一代SiOx和Si基纳米线器件的性能稳定、结构制造和纳米加工提供了一定的参考。更为重要的是,上述研究结果还具有十分重要的科学研究意义,它揭示了现有文献中经常忽略的表面纳米曲率效应和电子束非热激活效应的纳米科学本质问题,进一步证实了表面纳米曲率效应和电子束非热激活效应新概念具有很强的普适性,能够用来统一预言和解释高能电子束超快辐照下各种低维纳米结构的不稳定性转变和纳米加工。
曹加川[8]（2017）在《铁基非晶合金薄膜的热处理和电子束辐照工艺及磁性能研究》文中提出软磁性薄膜材料在电子信息技术高速发展的今天有着重要的地位。然而采用先进的脉冲激光沉积技术制备的非晶合金薄膜具有比相同成分的条带非晶样品更差的磁学性能。本文采用了脉冲激光沉积技术,在Si（100）单晶衬底上制备了Fe-B-Si-Nb的非晶合金薄膜,利用扫描电子显微镜（SEM）分析薄膜样品的表面形貌和厚度,利用X射线衍射仪（XRD）来分析薄膜的结构,采用原子力显微镜（AFM）来分析薄膜样品的表面形貌和粗糙度变化,使用综合物性分析仪（PPMS）中的VSM组件来对薄膜的磁性能进行测试分析,探讨了脉冲激光沉积时沉积参数、热处理和电子束辐照改性对Fe基非晶合金薄膜结构以及磁性能的影响。取得的主要研究结果如下:（1）对于在室温条件下沉积的Fe基薄膜,薄膜均为非晶态结构,通过台阶高度的测量分析发现薄膜的沉积速率随着膜厚的增加逐渐变缓。薄膜的粗糙度会随着厚度的增加而增加,薄膜的矫顽力随着厚度的增加而变大。（2）衬底温度的升高会导致薄膜的质量下降,薄膜表面出现许多孔洞,并且孔洞大小随着沉积温度的升高而增加,薄膜的粗糙度也随温度而增加,薄膜的矫顽力随着沉积温度的升高会先下降后升高,直至软磁性能恶化。（3）Fe基非晶合金薄膜在500℃退火保温1h后,在XRD图像上出现了结晶相α-Fe和Fe3Si,晶粒大小分别为34nm和30nm,薄膜的粗糙度随着退火温度的升高而增加,在退火温度为300℃时薄膜的矫顽力最低,此时薄膜的矫顽力相比于原始未退火的薄膜下降了43%。（4）在300℃退火保温不同时间,保温时间的延长会使得薄膜的粗糙度增加,但是薄膜还是非晶的状态,薄膜的矫顽力会随着保温时间的增加呈现出先下降后升高的趋势,在300℃退火保温0.5h时的薄膜其矫顽力最小,相比原始态薄膜下降了73%。（5）经过电子束辐照后的薄膜表面出现许多花斑状的结构,数量会随着辐照剂量的升高而增加,经过辐照后的薄膜还是非晶的状态,薄膜的矫顽力会随着辐照剂量的增加而下降,当电子束辐照剂量为40k Gy时,此时薄膜的矫顽力最低,为5.4Oe,薄膜的矫顽力相对于原始薄膜相比降低了89%。（6）通过退火和电子束辐照两种手段进行对比发现电子束辐照改性的方法比传统退火的方法改性更为有效地降低了薄膜的矫顽力,并且其操作性更为简单,重复性好。
时金安[9]（2017）在《金属玻璃动力学的透射电子显微学研究》文中指出金属玻璃作为非晶物质中的新成员具有相对简单的结构,很适合用于研究非晶物质的基本物理问题,比如非晶中短程序或中程序的团簇在空间上的排布、玻璃转变的具体过程等。同时金属玻璃本身也具有优异的物理性能和化学性能,比如高弹性、高硬度、耐磨损、防腐蚀、过冷液相区的超塑性,有些金属玻璃具有比同种成分晶体催化性更高、生物相容性更好的特点。这些优点使其在许多领域都有巨大的应用潜力。然而人们对金属玻璃的研究还在发展阶段,对很多概念和物理机制的认知都不是非常清晰。微观结构可以使人们对非晶物理本质和各种性能的分析都更加直观。透射电子显微镜对于分析材料的微观结构具有自己独特的优势。近年来随着透射电子显微镜技术的发展,越来越多的透射电镜实验已经应用到非晶微观结构和机制的分析当中。本论文通过透射电子显微学的方法对金属玻璃在抗氧化性、表面扩散、形核结晶等方面进行了研究。主要内容如下:1.研究了含铝金属玻璃良好抗氧化性的机制,给出了表面氧化铝保护层抗氧化的直接实验证据。通过电子束辐照下的原位透射电子显微观察,发现金属玻璃表面会形成一层氧化铝保护层。该致密的保护层可以阻碍氧分子的嵌入,减少氧分子在表面上的附着并且使决定氧化深度和速度的Mott势在保护层下急剧下降,从而使含铝的金属玻璃比其他金属玻璃更抗氧化。还通过对比实验证明非晶表面的原子扩散比同种成分的晶体容易。2.发现金属玻璃在玻璃转变温度以下长时间退火会使表面结晶。通过透射电子显微学分析其结构为类似超晶格的均匀结构,并且结晶使原本均匀的成分分布发生偏析。通过不同退火温度的对比实验证明了更高的温度会使结晶不均匀,出现多晶或多相的晶体。3.通过脉冲激光沉积制备了均匀分布在平整非晶SiNx支撑膜上的Pd80Si20金属玻璃纳米颗粒。通过透射电子显微技术对其成像并统计出金属玻璃临界形核尺寸。通过电子束辐照下颗粒变化的直接观察及分子动力学模拟,对该结论进行了验证。此外提出了两种快速判断SEM-FIB双束系统所制透射电子显微镜样品厚度的方法。
徐涛[10]（2016）在《新型二维材料电子辐照效应研究》文中提出新型二维材料的性能及应用受到其自身结构的重要影响。因此,研究新型二维材料的结构演变及规律,有利于深入了解其结构与性能的相关性,进而可推动其在相关领域的潜在应用。本论文利用透射电子显微镜中的高能电子束作为探索结构变化的工具,原位研究了石墨烯、氮化硼、二硫化钼等新型二维材料在电子束辐照作用下的微观结构演变行为及相关机制,通过对辐照机理的分析和电子辐照参数的控制,实现了二维材料原子尺度上的按需构筑。借助这些构筑机理,还尝试研究了二维材料在液态环境中的辐照效应。主要内容包括：1.在石墨烯方面,研究了会聚电子束辐照导致的沉积现象、刻蚀现象及两者之间的关系,并探讨了热处理对沉积、刻蚀效果的影响。（1）实验结果表明会聚电子束的电流密度存在一个临界值,当电流密度小于临界值时,电子束诱导的沉积效应更加明显；当电流密度大于临界值时,刻蚀效应更加显着。定量分析表明,电流密度临界值和材料状态有关,例如,对于液相超声剥离的石墨烯样品,电流密度临界值约为300A/cm2。（2）热处理能够修复石墨烯的结构缺陷,因此高温条件下刻蚀石墨烯获得纳米孔的过程相对缓慢,但制备的纳米孔拥有较好的结晶度。此外,热激励对石墨烯纳米孔的尺寸也具有调控作用。当纳米孔初始孔径小于石墨烯薄膜厚度时,纳米孔在热激励下趋向于缩孔；反之,当初始孔径大于薄膜厚度时,纳米孔在热激励下倾向于扩孔。这一现象是由表面自由能驱动孔边缘非饱和碳原子的扩散所引起。2.研究了氮化硼在电子束辐照下的结构演变行为。（1）在80keV能量的电子束辐照下,单层氮化硼上会形成大量的硼空位及三角状结构缺陷,三角状缺陷边界是以氮原子为终端的锯齿状结构。（2）AA’堆垛的双层氮化硼在80keV能量的电子束辐照下可形成挤压的单壁扶手椅型纳米管,其最小管径约为0.45 nm。分析表明,最小管径纳米管为（3,3）纳米管,是迄今实验上观察到的最小单壁氮化硼纳米管。3.研究了单层二硫化钼在电子束辐照下的结构演变行为。（1）结构表征证实撕胶带法制备的单层二硫化钼中存在大量的单硫空位,密度在1013/cm2量级。原位辐照实验表明,在80keV能量的电子束辐照下硫原子的离位截面约为（1.7±0.2）×10-28 m2。（2）单层二硫化钼在大剂量80keV能量的电子束辐照下形成宽度为0.35 nm的准一维结构。该结构呈现出不同于MoS2的原子结构特征,分析推断该结构相为Mo5S4。该实验结果表明电子束辐照有望成为一种由上而下制备亚纳米结构的重要技术手段。4.构建了用于研究二维材料在液态环境中辐照效应的原位系统。（1）通过传统硅基微纳加工技术成功构筑了液体腔,继而在透射电子显微镜中成功引入了液态实验环境。（2）尝试性观察了石墨烯、二硫化钼等二维材料在水溶液中的形态。（3）观察了其他材料在液态环境中的结构演变。
二、电子束诱导非晶GaAs晶化的形核与长大（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、电子束诱导非晶GaAs晶化的形核与长大（论文提纲范文）
（1）强流脉冲电子束辐照WC-10%Co硬质合金改性组织性能及热稳定性研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 主要符号表 |
| 1 绪论 |
| 1.1 强流脉冲电子束及其材料表面改性 |
| 1.1.1 电子束发展及应用 |
| 1.1.2 强流脉冲电子束及其对材料组织结构的影响 |
| 1.1.3 HCPEB材料表面改性机制的物理描述 |
| 1.2 硬质合金及其表面改性 |
| 1.2.1 硬质合金及其应用 |
| 1.2.2 硬质合金的表面改性 |
| 1.2.3 硬质合金强流脉冲电子束改性研究现状 |
| 1.3 非平衡凝固与亚稳相 |
| 1.3.1 稳态与亚稳态 |
| 1.3.2 非平衡过程与亚稳相的形成 |
| 1.4 选题依据及主要研究内容 |
| 2 实验材料、设备与方法 |
| 2.1 强流脉冲电子束辐照工艺 |
| 2.1.1 电子束设备构成与放电流程 |
| 2.1.2 HCPEB装置放电流程与性能参数 |
| 2.2 实验材料 |
| 2.3 微观结构与性能表征方法 |
| 2.3.1 微观形貌与结构分析 |
| 2.3.2 性能测试 |
| 2.4 理论分析方法 |
| 2.4.1 温度场模拟 |
| 2.4.2 高温扩散计算 |
| 2.4.3 热力学计算 |
| 3 强流脉冲电子束辐照WC-10%Co硬质合金表面改性 |
| 3.1 强流脉冲电子束YG10X硬质合金表面改性研究 |
| 3.1.1 表面形貌演变 |
| 3.1.2 截面形貌及成分分析 |
| 3.1.3 XRD分析 |
| 3.1.4 显微硬度 |
| 3.1.5 摩擦学性能 |
| 3.1.6 讨论 |
| 3.2 强流脉冲电子束YG10硬质合金表面改性研究 |
| 3.2.1 表面形貌演变 |
| 3.2.2 截面显微组织演变 |
| 3.2.3 相组成与微观组织分析 |
| 3.2.4 显微硬度 |
| 3.2.5 摩擦学性能 |
| 3.2.6 讨论 |
| 3.3 HCPEB辐照硬质合金改性过程中的尺寸效应 |
| 3.3.1 原始WC晶粒尺寸对改性形貌与组织的影响 |
| 3.3.2 改性组织性能及尺寸效应 |
| 3.4 本章小结 |
| 4 强流脉冲电子束WC-10%Co硬质合金改性理论分析 |
| 4.1 温度场模拟 |
| 4.1.1 强流脉冲电子束在材料表层内的能量分布 |
| 4.1.2 温度场模型及计算结果分析 |
| 4.2 高温下的扩散 |
| 4.2.1 高温液态下的原子扩散 |
| 4.2.2 高温液态金属中溶质C的扩散系数 |
| 4.3 相变机制讨论 |
| 4.3.1 纳米石墨颗粒的析出行为 |
| 4.3.2 非平衡凝固过程中的相选择 |
| 4.4 本章小结 |
| 5 HCPEB辐照WC-10%Co硬质合金改性组织热稳定性 |
| 5.1 表面形貌分析 |
| 5.2 相结构与显微组织分析 |
| 5.2.1 相结构 |
| 5.2.2 表面组织与元素分析 |
| 5.2.3 截面组织与元素分析 |
| 5.3 表面显微硬度 |
| 5.4 讨论 |
| 5.5 本章小结 |
| 6 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 创新点摘要 |
| 6.3 展望 |
| 附录A W-C系统热力学数据及CALPHAD相图计算 |
| 参考文献 |
| 攻读博士学位期间科研项目及科研成果 |
| 致谢 |
| 作者简介 |
（2）CsPbBr3钙钛矿量子点在玻璃中的原位生长及光学性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 卤化物钛矿材料介绍 |
| 1.1.1 卤化物钙钛矿结构 |
| 1.1.2 卤化物钙钛矿CsPbX_3的能带结构 |
| 1.2 卤化物钙钛矿CsPbX_3的研究现状 |
| 1.2.1 卤化物钙钛矿CsPbX_3的合成 |
| 1.2.2 卤化物钙钛矿CsPbX_3的光学性能研究 |
| 1.3 卤化物钙钛矿CsPbX_3的稳定性问题及解决策略 |
| 1.3.1 CsPbX_3钙钛矿的稳定性问题 |
| 1.3.2 CsPbX_3钙钛矿的电子束诱导相关研究 |
| 1.3.3 CsPbX_3钙钛矿稳定性的解决策略 |
| 1.4 量子点玻璃研究 |
| 1.4.1 量子点玻璃简介 |
| 1.4.2 量子点玻璃的制备 |
| 1.5 CsPbX_3钙钛矿量子点玻璃研究进展 |
| 1.5.1 CsPbX_3钙钛矿量子点玻璃 |
| 1.5.2 CsPbX_3钙钛矿量子点玻璃的制备 |
| 1.6 本文选题的意义 |
| 1.6.1 本文研究的目的和意义 |
| 1.6.2 本文研究的主要内容 |
| 第二章 材料的制备与表征方法 |
| 2.1 实验原料 |
| 2.2 实验加工制备设备 |
| 2.3 样品性能表征仪器 |
| 2.4 实验样品的制备方法 |
| 2.4.1 CsPbBr_3量子点微晶玻璃的制备 |
| 2.4.2 CsPbBr_3:Eu~(3+)量子点微晶玻璃的制备 |
| 2.4.3 自晶化CsPbBr_3量子点微晶玻璃的制备 |
| 2.5 实验样品的基本性能测试及表征 |
| 2.5.1 热重-差热分析 |
| 2.5.2 粉末/块体X射线衍射分析 |
| 2.5.3 X射线光电子能谱分析 |
| 2.5.4 红外光谱分析仪 |
| 2.5.5 透射电子显微镜分析 |
| 2.5.6 能量色散光谱分析 |
| 2.5.7 荧光光谱分析 |
| 2.5.8 透过光谱和吸收光谱 |
| 2.5.9 发光寿命衰减曲线 |
| 第三章 CsPbBr_3钙钛矿量子点在玻璃中的原位生长 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 结果与讨论 |
| 3.2.1 CsPbBr_3量子点玻璃的物相分析 |
| 3.2.2 电子束诱导CsPbBr_3量子点在玻璃基体上原位生长 |
| 3.2.3 原子尺度观测CsPbBr_3量子点在玻璃基体上的降解 |
| 3.3 本章小结 |
| 第四章 玻璃拓扑结构调控析出CsPbBr_3量子点 |
| 4.1 前言 |
| 4.2 结果与讨论 |
| 4.2.1 自晶化的CsPbBr_3 QDs玻璃的物相表征 |
| 4.2.2 自晶化机理探究 |
| 4.2.3 背光显示和激光照明应用探究 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 稀土掺杂提升CsPbBr_3钙钛矿量子点光学性能 |
| 5.1 前言 |
| 5.2 结果与讨论 |
| 5.2.1 Eu~(3+)掺杂CsPbBr_3量子点玻璃的物相表征 |
| 5.2.2 Eu~(3+)掺杂CsPbBr_3量子点玻璃应用于短波屏蔽 |
| 5.3 本章小结 |
| 第六章 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录A 攻读硕士学位期间发表的论文目录 |
（3）原位透射电镜电子束辐照非热诱导低维纳米结构不稳定性及其交互作用研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景和意义 |
| 1.2 研究目标与内容 |
| 1.3 研究的创新点 |
| 1.4 论文的基本框架 |
| 参考文献 |
| 第二章 仪器介绍及材料制备 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 实验设备及材料制备 |
| 2.2.1 透射电子显微镜 |
| 2.2.2 超声波振荡器 |
| 2.2.3 磁控溅射装置 |
| 2.2.4 化学气相沉积设备 |
| 2.2.5 溅射镀膜设备 |
| 2.2.6 台式离心机 |
| 参考文献 |
| 第三章 实验方法和理论模型 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 原位辐照实验方法 |
| 3.2.1 FE-TEM样品的制备 |
| 3.2.2 原位辐照操作 |
| 3.2.3 原位辐照实验参数 |
| 3.3 理论模型 |
| 3.3.1 表面纳米曲率效应 |
| 3.3.2 电子束非热激活效应 |
| 参考文献 |
| 第四章 电子束辐照下非晶SiO_x纳米线结构不稳定性及其交互作用 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 交叉非晶SiO_x纳米线间的非热融合 |
| 4.2.1 两根交叉纳米线 |
| 4.2.2 三根交叉纳米线 |
| 4.3 两根平行非晶SiO_x纳米线间的非热融合 |
| 4.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第五章 电子束辐照下晶态Au纳米粒子结构不稳定性及其交互作用 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 两个晶态Au纳米粒子间的交互作用 |
| 5.2.1 相同电流密度电子束辐照下不同曲率纳米粒子间的交互作用 |
| 5.2.2 不同电流密度电子束辐照下相同曲率纳米粒子间的交互作用 |
| 5.3 小结 |
| 参考文献 |
| 第六章 电子束辐照下晶态Au纳米粒子对非晶SiO_x纳米线结构不稳定性钝化作用 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 对两端不固定非晶SiO_x纳米线均匀形变的钝化结果分析 |
| 6.3 对两端固定非晶SiO_x纳米线非均匀形变钝化的结果分析 |
| 6.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第七章 总结与展望 |
| 7.1 总结 |
| 7.2 展望 |
| 附录:博士期间的研究成果 |
| 致谢 |
（4）热场与电子束辐照作用下氧化硅及碳化硅表面结构演变的原位研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 原位透射电子显微学方法的特点与意义 |
| 1.3 硅基材料(氧化硅,碳化硅)表面结构演变的研究现状 |
| 1.3.1 氧化硅表面结构演变的研究 |
| 1.3.2 碳化硅表面结构演变的研究 |
| 1.4 本论文的研究内容与意义 |
| 第二章 原位透射电子显微学 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 电子束与样品作用机制 |
| 2.2.1 电子束与样品作用产生的信号 |
| 2.2.2 电子束辐照引起的弹性损伤 |
| 2.2.3 电子束辐照引起的非弹性损伤 |
| 2.3 透射电子显微镜的高分辨成像原理 |
| 2.4 原位透射电子显微学的研究进展 |
| 2.4.1 基于电子束辐照的原位研究 |
| 2.4.2 基于热场的原位研究 |
| 2.4.3 其他原位研究 |
| 第三章 无定形氧化硅表面生长晶体硅的原位研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 实验结果与讨论 |
| 3.2.1 晶体硅颗粒的生长过程 |
| 3.2.2 晶体硅颗粒的生长条件 |
| 3.2.3 晶体硅的形成机理 |
| 3.3 本章小结 |
| 第四章 原子尺度下生长过程中碳化硅表面结构演变的原位研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验方法 |
| 4.3 实验结果与讨论 |
| 4.3.1 β-SiC生长过程中表面结构演变 |
| 4.3.2 α-SiC生长过程中表面结构演变 |
| 4.3.3 SiC表面台阶聚并形成机理讨论 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 原子尺度下刻蚀过程中碳化硅表面外延石墨烯的原位研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 实验方法 |
| 5.3 实验结果与讨论 |
| 5.3.1 石墨烯生长过程的实验观察 |
| 5.3.2 石墨烯生长过程的理论模拟 |
| 5.4 本章小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读博士期间发表的论文 |
| 致谢 |
（5）电子束辐照对锗锑碲非晶薄膜影响的研究（论文提纲范文）
| 1 前言 |
| 2 实验 |
| 3 结果与讨论 |
| 4 结论 |
（6）石墨烯基原位高分辨透射电镜相关器件的开发和应用（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 二维材料石墨烯的研究背景 |
| 1.1.1 石墨烯的研究现状 |
| 1.1.2 石墨烯的性能和应用 |
| 1.1.3 石墨烯的生长和转移 |
| 1.2 原位液体池电镜的研究现状 |
| 1.2.1 原位液体池电镜的发展 |
| 1.2.2 原位液体池电镜的应用 |
| 1.2.3 原位液体池电镜的前景 |
| 1.3 石墨烯液体池电镜的研究进展 |
| 1.4 辐照损伤与石墨烯三明治结构 |
| 1.4.1 透射电镜中的电子束辐照损伤 |
| 1.4.2 石墨烯三明治结构 |
| 1.5 本课题研究的主要内容 |
| 第二章 透射电镜原位观察石墨烯液体池中水的辐解 |
| 2.1 前言 |
| 2.2 实验方法 |
| 2.2.1 石墨烯液体池样品制备 |
| 2.2.2 电镜表征 |
| 2.3 结果与讨论 |
| 2.3.1 原位观察电子束诱导气泡的顺序析出 |
| 2.3.2 石墨烯液体池对纳米气泡各种演变过程的观察 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 透射电镜原位观察石墨烯液体池中水的凝结 |
| 3.1 前言 |
| 3.2 实验方法 |
| 3.3 结果与讨论 |
| 3.3.1 纳米水滴的凝结和循环长大/消失 |
| 3.3.2 纳米水滴的形貌演变和位移 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 石墨烯三明治结构原位电镜研究硫单质 |
| 4.1 前言 |
| 4.2 实验方法 |
| 4.2.1 硫纳米颗粒的制备 |
| 4.2.2 石墨烯-硫三明治结构样品制备 |
| 4.2.3 电镜表征 |
| 4.3 结果和讨论 |
| 4.3.1 石墨烯-硫三明治结构的电镜表征 |
| 4.3.2 石墨烯-硫三明治结构的原位加热 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 总结 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 个人简历 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 |
（7）电子束辐照非热诱导纳米线纳米不稳定性及相关物理问题研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 研究背景和意义 |
| 1.2 研究目标和内容 |
| 1.3 研究的创新之处 |
| 1.4 论文的基本框架 |
| 参考文献 |
| 第二章 实验设备及方法 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 仪器设备 |
| 2.2.1 化学气相沉积设备 |
| 2.2.2 溅射镀膜设备 |
| 2.2.3 透射电子显微镜 |
| 2.3 实验方法 |
| 2.3.1 纳米线的制备 |
| 2.3.2 TEM样品的制备 |
| 2.3.3 辐照实验的电镜操作 |
| 参考文献 |
| 第三章 理论模型 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 表面纳米曲率效应 |
| 3.2.1 模型概述 |
| 3.2.2 实验设计 |
| 3.3 电子束非热激活效应 |
| 3.3.1 模型概述 |
| 3.3.2 实验设计 |
| 参考文献 |
| 第四章 非晶SiO_x纳米线的结构不稳定性研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 不同形貌SiO_x纳米线的不稳定性实验及分析 |
| 4.2.1 一端固定另一端自由 |
| 4.2.2 两端固定且轴向平直 |
| 4.2.3 两端固定且轴向弯曲 |
| 4.3 不同电流密度下SiO_x纳米线的不稳定性实验及分析 |
| 4.4 SiO_x纳米线的弯曲变形实验及分析 |
| 4.4.1 无自由端纳米线的弯曲变形 |
| 4.4.2 有自由端纳米线的弯曲变形 |
| 4.5 SiO_x纳米线的伸长实验及分析 |
| 4.6 SiO_x纳米线的焊接实验及分析 |
| 4.7 小结 |
| 参考文献 |
| 第五章 Au纳米颗粒对SiO_x纳米线的钝化作用研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 纳米线均匀形变的钝化实验及分析 |
| 5.3 纳米线非均匀形变的钝化实验及分析 |
| 5.3.1 纳米线弯曲 |
| 5.3.2 纳米线颈缩 |
| 5.3.3 纳米线切割 |
| 5.4 小结 |
| 参考文献 |
| 第六章 单晶Si纳米线的结构不稳定性研究 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 Si纳米线的不稳定性实验及分析 |
| 6.3 小结 |
| 参考文献 |
| 第七章 总结与展望 |
| 附录 博士期间的研究成果 |
| 致谢 |
（8）铁基非晶合金薄膜的热处理和电子束辐照工艺及磁性能研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 非晶合金概述 |
| 1.1.1 非晶合金的发展历史 |
| 1.1.2 非晶合金特点 |
| 1.1.3 非晶合金形成理论 |
| 1.2 非晶合金软磁材料 |
| 1.3 非晶态薄膜研究现状 |
| 1.3.1 非晶态薄膜发展与现状 |
| 1.3.2 非晶态软磁材料与晶态材料相比优势 |
| 1.4 非晶薄膜制备技术 |
| 1.4.1 真空蒸发法 |
| 1.4.2 溅射法 |
| 1.4.3 化学气相沉积法 |
| 1.4.4 脉冲激光沉积技术 |
| 1.5 目前存在的问题 |
| 1.6 非晶合金改性技术 |
| 1.6.1 非晶合金热处理改性研究 |
| 1.6.2 非晶合金高能束辐照改性研究 |
| 1.7 研究意义与内容 |
| 第2章 实验设备及测试仪器 |
| 2.1 脉冲激光沉积（PLD）原理 |
| 2.2 脉冲激光沉积（PLD）设备 |
| 2.2.1 真空系统 |
| 2.2.2 准分子激光器 |
| 2.3 Fe基合金靶材的制备 |
| 2.4 Fe基非晶合金薄膜制备 |
| 2.5 分析测试技术 |
| 2.5.1 XRD |
| 2.5.2 SEM |
| 2.5.3 AFM |
| 2.5.4 PPMS |
| 2.5.5 TEM |
| 第3章 薄膜厚度对Fe基非晶合金薄膜结构和磁性能影响 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 Fe基非晶合金薄膜生长规律 |
| 3.3 Fe基非晶合金薄膜不同厚度下的表面形貌 |
| 3.4 Fe基非晶合金薄膜厚度对结构的影响 |
| 3.5 Fe基非晶合金薄膜厚度对粗糙度的影响 |
| 3.6 Fe基非晶合金薄膜厚度对磁性能的影响 |
| 3.7 本章小结 |
| 第4章 沉积温度对Fe基合金薄膜结构及磁性能影响 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 沉积温度对Fe基合金薄膜粗糙度的影响 |
| 4.3 沉积温度对Fe基合金薄膜结构的影响 |
| 4.4 沉积温度对Fe基合金薄膜磁性能的影响 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 退火温度对Fe基非晶合金薄膜结构及磁性能影响 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 退火温度对Fe基非晶合金薄膜结构的影响 |
| 5.3 退火温度对Fe基非晶合金薄膜粗糙度的影响 |
| 5.4 退火温度对Fe基非晶合金薄膜磁性能的影响 |
| 5.5 本章小结 |
| 第6章 保温时间对Fe基非晶合金薄膜结构和磁性能影响 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 保温时间对Fe基非晶合金薄膜粗糙度的影响 |
| 6.3 保温时间对Fe基非晶合金薄膜结构的影响 |
| 6.4 保温时间对Fe基非晶合金薄膜磁性能的影响 |
| 6.5 本章小结 |
| 第7章 电子束辐照对Fe基非晶合金薄膜结构及磁性能的影响 |
| 7.1 引言 |
| 7.2 电子束辐照对Fe基非晶合金薄膜表面形貌的影响 |
| 7.3 电子束辐照对Fe基非晶合金薄膜结构的影响 |
| 7.4 电子束辐照对Fe基非晶合金薄膜磁性能的影响 |
| 7.5 本章小结 |
| 第8章 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 |
（9）金属玻璃动力学的透射电子显微学研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.1.1 金属玻璃的研究历史 |
| 1.1.2 金属玻璃的分类和应用 |
| 1.2 金属玻璃动力学研究进展 |
| 1.2.1 金属玻璃本质的动力学研究 |
| 1.2.2 金属玻璃性能上的动力学研究 |
| 1.3 透射电子显微分析在金属玻璃研究中的应用 |
| 1.4 本论文意义及研究内容 |
| 第二章 透射电子显微学介绍 |
| 2.1 透射电子显微镜基本原理 |
| 2.1.1 分辨率和电子的性质 |
| 2.1.2 散射 |
| 2.1.3 阿贝成像原理 |
| 2.2 透射电子显微镜的基本构造 |
| 2.2.1 电子枪 |
| 2.2.2 聚光镜 |
| 2.2.3 物镜和样品台 |
| 2.2.4 投影镜 |
| 2.2.5 记录系统 |
| 2.2.6 其他附件 |
| 2.2.7 其他支撑系统 |
| 2.3 透射电子显微学的应用模式 |
| 2.3.1 普通成像 |
| 2.3.2 衍射模式 |
| 2.3.3 衍射衬度像 |
| 2.3.4 会聚束衍射 |
| 2.3.5 HRTEM |
| 2.3.6 STEM |
| 2.3.7 谱类模式 |
| 2.3.8 其他模式 |
| 第三章 聚焦离子束技术(FIB)制备TEM样品 |
| 3.1 FIB简介 |
| 3.1.1 FIB显微镜的原理及构造 |
| 3.1.2 刻蚀功能 |
| 3.1.3 沉积功能 |
| 3.2 FIB在TEM样品制备中的应用 |
| 3.2.1 FIB在制备TEM样品方法的发展和现状 |
| 3.2.2 双束制备透射电镜样品 |
| 3.2.3 离子束注入损伤和再沉积问题 |
| 3.3 FIB制备TEM样品判断厚度的两种方法 |
| 3.3.1 SEM成像原理 |
| 3.3.2 SEM衬度判断厚度方法 |
| 3.3.3 通过斜面宽度判断样品厚度 |
| 第四章 含铝金属玻璃的抗氧化机制的原位TEM研究 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验 |
| 4.3 结果与讨论 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 Tg以下表面结晶行为和临界形核尺寸的研究 |
| 5.1 金属玻璃Tg以下表面结晶行为 |
| 5.1.1 引言 |
| 5.1.2 实验 |
| 5.1.3 结果与讨论 |
| 5.1.4 小结 |
| 5.2 低维金属玻璃临界形核尺寸的研究 |
| 5.2.1 引言 |
| 5.2.2 实验 |
| 5.2.3 结果与讨论 |
| 5.2.4 小结 |
| 第六章 总结与展望 |
| 参考文献 |
| 个人简历及发表文章目录 |
| 致谢 |
（10）新型二维材料电子辐照效应研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 新型二维材料的基本结构和性能 |
| 1.2.1 石墨烯 |
| 1.2.2 氮化硼BN |
| 1.2.3 二硫化钼MoS_2 |
| 1.3 新型二维材料的制备方法 |
| 1.3.1 top-down剥离法 |
| 1.3.2 bottom-up生长法 |
| 1.4 新型二维材料的应用前景 |
| 1.4.1 微纳器件 |
| 1.4.2 能源与环境领域 |
| 1.4.3 其他领域 |
| 1.5 本论文的研究内容和意义 |
| 第二章 透射电子显微学及电子辐照效应 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 透射电子显微学 |
| 2.2.1 透射电子显微镜的构造及其原理 |
| 2.2.2 高分辨透射电子显微术 |
| 2.2.3 电子衍射 |
| 2.2.4 X射线能谱 |
| 2.2.5 电子能量损失谱 |
| 2.2.6 原位透射电子显微术 |
| 2.3 电子辐照效应 |
| 2.3.1 弹性散射效应 |
| 2.3.2 非弹性散射效应 |
| 2.3.3 原位辐照研究二维材料结构的示例 |
| 第三章 石墨烯辐照效应及结构调控 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 实验结果及讨论 |
| 3.2.1 辐照溅射 |
| 3.2.2 辐照沉积 |
| 3.2.3 溅射和沉积的关系 |
| 3.2.4 热激励对溅射效果的影响 |
| 3.3 本章小结 |
| 第四章 氮化硼原位辐照及结构演变 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验结果及讨论 |
| 4.2.1 单层BN辐照效应 |
| 4.2.2 双层BN结构演变 |
| 4.3 本章小结 |
| 第五章 二硫化钼原位辐照及结构演变 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 实验结果及讨论 |
| 5.2.1 MoS_2辐照效应 |
| 5.2.2 MoS_2结构演变 |
| 5.3 本章小结 |
| 第六章 液态环境二维纳米材料原位研究初探 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 实验结果及讨论 |
| 6.2.1 液态环境构建 |
| 6.2.2 液态环境二维材料行为初探 |
| 6.2.3 异质结构液相生长动态表征 |
| 6.3 本章小结 |
| 第七章 总结与展望 |
| 7.1 主要研究成果 |
| 7.2 展望 |
| 参考文献 |
| 在学期间发表论文 |
| 致谢 |
四、电子束诱导非晶GaAs晶化的形核与长大（论文参考文献）
- [1]强流脉冲电子束辐照WC-10%Co硬质合金改性组织性能及热稳定性研究[D]. 彭文海. 大连理工大学, 2021
- [2]CsPbBr3钙钛矿量子点在玻璃中的原位生长及光学性能研究[D]. 杨泽. 昆明理工大学, 2021(01)
- [3]原位透射电镜电子束辐照非热诱导低维纳米结构不稳定性及其交互作用研究[D]. 程亮. 厦门大学, 2019(08)
- [4]热场与电子束辐照作用下氧化硅及碳化硅表面结构演变的原位研究[D]. 余开浩. 东南大学, 2019(06)
- [5]电子束辐照对锗锑碲非晶薄膜影响的研究[J]. 王疆靖,蒋婷婷,田琳,张丹利,张伟. 中国材料进展, 2019(02)
- [6]石墨烯基原位高分辨透射电镜相关器件的开发和应用[D]. 胡奇. 浙江大学, 2018(12)
- [7]电子束辐照非热诱导纳米线纳米不稳定性及相关物理问题研究[D]. 苏江滨. 厦门大学, 2017(01)
- [8]铁基非晶合金薄膜的热处理和电子束辐照工艺及磁性能研究[D]. 曹加川. 深圳大学, 2017(07)
- [9]金属玻璃动力学的透射电子显微学研究[D]. 时金安. 中国科学院大学(中国科学院物理研究所), 2017(12)
- [10]新型二维材料电子辐照效应研究[D]. 徐涛. 东南大学, 2016(02)